< class="container"> < class="row"> < class="top_menu"> < class="container"> < class="language">语言选择: 中文版 ∷  英文版 < class="col-xs-12 col-sm-9 col-md-9"> < id="topsearch" class="col-xs-12 col-sm-3 col-md-3">
< class="input-group search_group"> 搜 索
< class="flash">
< class="container"> < class="row"> < class="col-xs-12 col-sm-8 col-md-9" style="float:right"> < class="list_box">

光刻系统

< class="col-sm-12 col-md-6 showpic_box"> < id="pic-page"> MDA-400M光刻机 < class="col-sm-12 col-md-6 proinfo_box">

MDA-400M光刻机

< class="product_con"> MDA-400M光刻机
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;
MIDAS为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

产地:韩国MIDAS公司,唯一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比
型号:MDA-400M
厂家链接:http://www.midas-china.com.cn/


MDA-400M

易于操作和安装,处理各种尺寸的基板,带触摸屏面板的PLC控制

全手动类型

掩模版尺寸达5英寸

基板尺寸为4英寸圆形

均匀光束尺寸4.25*4.25英寸

光源:紫外线灯,350 W

光束波长350~450 nm

光束均匀性<±3%

365 nm强度 ~25 mW/

手动对准

对准精度1 um

操作模式:软、硬、真空接触和接近

工艺分辨率 1 um@1 um PR厚度,带真空触点

尺寸(mm)1080(宽)*1060(深)*1580(高)



< class="point"> 上一个:NANO IMPRINT KIT纳米压印系统 下一个:SPIN-5000/7000A匀胶机 < class="list_related">

相关产品

< class="product_list related_list"> < class="col-sm-4 col-md-3 col-mm-6 product_img"> MDA-80FA全自动光刻机

MDA-80FA全自动光

< class="col-sm-4 col-md-3 col-mm-6 product_img"> NANO IMPRINT KIT纳米压印系统

NANO IMPRINT

< class="col-sm-4 col-md-3 col-mm-6 product_img"> SPIN-5000/7000A匀胶机

SPIN-5000/70

< class="col-sm-4 col-md-3 col-mm-6 product_img"> 硅穿孔工艺设备

硅穿孔工艺设备

< class="col-xs-12 col-sm-4 col-md-3"> < class="left_nav" id="categories">

网络电子游戏网址

< class="left_news">

新闻中心

< class="index_contact">

联系我们

CONTACT US

联系人:张垚

手机:

电话:

邮箱:

地址: